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7月14日，國家知識產(chǎn)權局舉辦第三季度例行新聞發(fā)布會(huì )

發(fā)布會(huì )上，國家知識產(chǎn)權局辦公室副主任衡付廣介紹了專(zhuān)利、商標、地理標志和集成電路布圖設計的半年統計數據信息等內容。

專(zhuān)利方面，2021年上半年，我國發(fā)明專(zhuān)利授權33.9萬(wàn)件。截至2021年6月底，我國發(fā)明專(zhuān)利有效量為332.4萬(wàn)件，其中國內(不含港澳臺)發(fā)明專(zhuān)利有效量為245.4萬(wàn)件，同比增長(cháng)23.0%。受理PCT國際專(zhuān)利申請3.33萬(wàn)件，同比增長(cháng)12.6%。

上半年，我國實(shí)用新型專(zhuān)利授權 132.7 萬(wàn)件，外觀(guān)設計專(zhuān)利授權 39.3 萬(wàn)件。

商標方面，上半年，我國商標注冊 372.4 萬(wàn)件。截至 2021 年 6 月底,有效注冊商標量為 3354.8 萬(wàn)件,同比增長(cháng) 22.4%。收到申請人馬德里國際商標注冊申請2954件。

集成電路布圖設計方面，上半年，我國集成電路布圖設計登記發(fā)證 7629 件，繼續保持較快增長(cháng)。

據介紹，上半年專(zhuān)利、商標、集成電路布圖設計的授權量同比增長(cháng)較快。這反映出我國市場(chǎng)主體創(chuàng )新創(chuàng )造創(chuàng )業(yè)更加活躍，同時(shí)也是持續深化知識產(chǎn)權領(lǐng)域“放管服”改革、提高知識產(chǎn)權審查質(zhì)量和效率的結果。

審查能力的持續提升也體現在專(zhuān)利商標的審查周期上。截至6月底，我國發(fā)明專(zhuān)利平均審查周期已壓減至19.4個(gè)月，高價(jià)值專(zhuān)利審查周期壓減至13.4個(gè)月，商標注冊平均審查周期穩定在4個(gè)月以?xún)取?/p>