誤區一:技術(shù)方案交待不清楚,很多人提交的專(zhuān)利申請文件非常簡(jiǎn)單,有的甚至只有幾句話(huà),技術(shù)方案完全沒(méi)有交待清楚,這給專(zhuān)利代理人制作正式專(zhuān)利申請文件帶來(lái)很大困難,在要求發(fā)明人提供更多的技術(shù)方案時(shí),他們會(huì )以技術(shù)保密為由回避,這些發(fā)明人其實(shí)就是沒(méi)有把握好保密與公開(kāi)的度,他們過(guò)度地要求保密,害怕多透露一點(diǎn)技術(shù)信息,而恰恰是這種“過(guò)度”忽視了技術(shù)方案交待不清楚,公開(kāi)不充分的問(wèn)題。
誤區二:專(zhuān)利申請前不做任何檢索,有些發(fā)明人提交的專(zhuān)利申請文件沒(méi)有做查新檢索,對技術(shù)方案的新穎性如何不確定,甚至根本不知道其技術(shù)方案有沒(méi)有公開(kāi)過(guò)或公開(kāi)使用過(guò),這也是一個(gè)非常普遍的現象,全世界范圍內的任何文獻都可影響技術(shù)方案的新穎性。但在使用方面,只有國內的使用才影響技術(shù)方案的新穎性。
誤區三:先發(fā)表論文或成果鑒定再申請專(zhuān)利,有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定,而沒(méi)有想到先申請專(zhuān)利保護,由于發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開(kāi)技術(shù)內容,使專(zhuān)利申請失去新穎性而得不到保護。
誤區四:對專(zhuān)利缺乏有效的管理,有些企業(yè)申請了很多專(zhuān)利,但無(wú)專(zhuān)人管理,專(zhuān)利文件之間有的互相沖突,有的已無(wú)市場(chǎng)價(jià)值還在交納年費,有的專(zhuān)利權已經(jīng)遭受侵犯但企業(yè)管理者對專(zhuān)利特征不了解,不能及時(shí)提起訴訟。
誤區五:缺乏長(cháng)遠的專(zhuān)利戰略規劃,有計劃地實(shí)施專(zhuān)利戰略對企業(yè)來(lái)說(shuō)非常重要,可以避免時(shí)間和精力的浪費,一些企業(yè)毫無(wú)目的的申請大量專(zhuān)利,結果導致授權率低,并產(chǎn)生大量的垃圾專(zhuān)利,浪費時(shí)間和精力,一個(gè)企業(yè)應該對自己行業(yè)內的基本專(zhuān)利狀況及外圍專(zhuān)利狀況有十分明確的認識,從而找到技術(shù)突破口,排除他人專(zhuān)利障礙,確立自己的專(zhuān)利優(yōu)勢,贏(yíng)得市場(chǎng)競爭。
備案號:豫ICP備20023378號
看的辛苦不如直接問(wèn)!! 商標;專(zhuān)利;版權;法律